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製品名

i線用ARC®

 
製品グレード XHRiC,ARC i-CON®
用途 半導体リソグラフィー用反射防止コーティング材
特徴 1. 本製品の使用により、レジスト露光時に基板界面での照射光の反射により発生する様々なトラブルを解決します。i 線、KrF、ArF用露光技術にマッチする各種ARC®coatingを取り揃えております。
2. 0.30μm以下をターゲットとしたアドバンスト i 線リソグラフィーにおいて、ARC®coatingは不可欠な技術となりました。
3. XHRiCは、i線の限界に挑戦するレジストの性能をフルに発揮させます。

*ARC®はBrewer Science, Inc.の登録商標です。

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